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電壓放大器在線性相位調制雙零差干涉儀位移測量實驗中的應用

更新時間:2025-04-18      瀏覽次數:114

  實驗名稱:線性相位調制雙零差干涉儀位移測量相關實驗

  測試目的:測試雙零差干涉儀在測量鏡M2靜止時,進行長時間的測量時,環境參數變化引起的兩路干涉信號相位差的漂移情況。

  測試設備:電壓放大器、He?Ne激光器、信號發生器、電光相位調制器、偏振片、普通分光器、角錐棱鏡等。

  實驗過程:

雙零差干涉儀位移測量系統實驗裝置

  圖1:雙零差干涉儀位移測量系統實驗裝置

  雙零差干涉儀位移測量系統實驗裝置如圖1所示,調好光路后,測量鏡M2靜止不動,EOM采用線性相位調制,調制信號由信號發生器產生,鋸齒波頻率設置為500Hz,幅值起初設置為7.5V左右,再通過微調幅值使得干涉信號是一個完整的余弦信號。一直測量PD1和PD2檢測到的干涉信號相位差,并長時間記錄相位差的變化情況。實驗時要確保實驗環境的穩定,減少其他因素的干擾,因此實驗在夜晚進行。

  實驗結果:

6小時相位差穩定性測試實驗結果

  圖2:6小時相位差穩定性測試實驗結果

  實驗結果如圖2所示,從圖2中可以看出:在6個小時內相位差變化約為80o,每分鐘約變化0.2o,對于位移測量實驗,一般測量速度為毫米級每秒,實驗全程能夠在幾分鐘內完成。因此在環境較好的情況下,在一次位移測量過程中相位差漂移較小。

  在線性相位調制雙零差干涉儀位移測量相關實驗中:(1)相位差測量穩定性實驗表明在6個小時內每分鐘變化約0.2°,符合實驗測量要求;(2)納米級位移測量實驗結果為:位移誤差均值和標準偏差都不超過1nm;(3)微米級位移測量實驗結果為:位移誤差均值在1nm范圍內,位移誤差標準偏差在1.42nm~3.21nm范圍內。

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